粒。
在内存领域里，智云微电子的工艺水平已经稳定生产三十纳米工艺，并且二十五纳米工艺的试生产也已经获得成功，正在开启二十五纳米工艺内存的量产计划。
在逻辑芯片以及储存芯片这两大核心领域里，智云微电子的技术水准都是能够跟上世界第一梯队的。
而这些在徐申学看来，都是自己这几年辛辛苦苦播种之后结出来的果实！
唯一让徐申学不满，乃至担忧的是，结出芯片果实的这些先进晶圆厂，使用的各类设备以及耗材，绝大部分都是进口货，非常容易被卡脖子。
比如典型设备光刻机，清一色的是荷兰ASML的DUV浸润式光刻机，目前也只有该公司生产的DUV浸润式光刻机，才能够满足三十二纳米/二十纳米工艺的芯片生产。
海湾科技研发出来的HL-ARF6508型DUV干式光刻机，可没办法干这个活！
哪怕采用双重曝光技术也非常困难，这里头还有着套刻精度的要求，海湾科技的第一台DUV干式光刻机，套刻精度只有八纳米，而根据海湾科技方面的技术研究，想要搞双重曝光的话，至少也得5.6纳米的套刻精度，这样才能够通过双重曝光做出来四十纳米的工艺。
很可惜，目前的海湾科技的光刻机套刻精度，还达不到这个程度。
就算能达到，也没啥实际用处。
因为成本太高了！
现在的四十五纳米工艺芯片，都已经算是落后制程芯片了，你还用多重曝光技术大幅度增加成本，得亏死你。
当然，这说的是正常市场环境下……如果是不正常的市场环境下，也是可以这么做的。
因此海湾科技那边，也对这方面的技术进行一定的研究，算是作为一个技术储备的研发吧，实际上没啥卵用！
毕竟哪怕爆发战争之类的极端事件，以海湾科技的技术能力，也能够维护进口的一大堆DUV浸润式光刻机的运行。
而智云微电子进口的DUV浸润式光刻机，那可是相当多。
目前已经投入使用，以及算上已经到货，正在安装调试的DUV浸润式光刻机，总量有六十三台。
对应的是智云微电子之前规划的月产十五万片十二寸晶圆的产能。
此外还有大量DUV浸润式光刻机的订单，因为智云微电子还在修建更多的晶圆厂，正在持续提升产能，ASML那边每年都要给智云微电子交付二三十台DUV浸润式光刻机呢。
至于最后智云微电子能有多少进口的DUV浸润式光刻机，一方面要看国外什么时候对智云进行制裁，另外一方面就要看海蓝科技的技术什么时候获得突破，自己搞出来DUV浸润式光刻机了。
而这些进口的DUV浸润式光刻机，海蓝科技也是具备对其进行基本维护的能力的，足以保障其运转。
因此，哪怕是极端情况下，智云微电子也用不着使用自家的DUV干式光刻机去生产四十五纳米的芯片。
没那必要。
参加了智云微电子的第二期工程投产仪式后，徐申学干脆飞到了智云微电子的通城总部，去视察了智云微电子的先进制程研发团队，看看研发进度如何。
目前智云微电子，正在攻坚22纳米工艺，该工艺已经是目前最顶级的工艺技术了，几乎逼近了当下DUV浸润式光刻机的物理极限，其研发难度是相当大的。
徐申学去看的时候，察觉到了研发团队的进度缓慢后，也是默默的调高了对工艺制程研发人员的科研系统名额的分配。
给他们套了个S级的科研名额。
目前徐申学手头上一共就只有两个S级的科研名头，之前只有一个的时候是芯片制造和半导体设备等
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